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王新强
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发表论文(2013-2022年)
Growth of high quality n-Al0.5Ga0.5N thick films by MOCVD
发布时间:2022-04-11点击次数:
影响因子: 3.423
DOI码: 10.1016/j.matlet.2016.04.150
发表刊物: Materials Letters
论文类型: Journal
文献类型: J
是否译文:
发表时间: 2016-04-20
第一作者: Chenguang He
通讯作者: Zhixin Qin, Fujun Xu
全部作者: Lisheng Zhang , Mingxing Wang ,Mengjun Hou , Weiwei Guo , Shan Zhang , Xinqiang Wang, Bo Shen