杨学林
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杨学林
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研究领域
III族氮化物半导体材料和电子/光电子器件:
1、Si衬底上GaN基半导体材料的MOCVD外延生长研究
2、GaN基半导体材料中的杂质缺陷研究
3、GaN基功率电子器件/微波射频电子器件物理研究
论文成果
Unambiguous Identification of Carbon Location on N-Site in Semi-insulating GaN,
Phys. Rev. Lett.
2018,
121,
145505.
Epitaxy of Single-Crystalline GaN Film on CMOS-Compatible Si(100) Substrate Buffered by Graphene,
Adv. Funct. Mater.
2019,
29,
1905056.
Enhanced transport properties in InAlGaN/AlN/GaN heterostructures on Si (111) substrates: The role of interface quality,
Appl. Phys. Lett.
2017,
110,
172101.
Edge Dislocations Triggered Surface Instability in Tensile Epitaxial Hexagonal Nitride Semiconductor,
ACS Appl. Mat. Interfaces
2016,
8,
34108.
High mobility AlGaN/GaN heterostructures grown on Si substrates using a large lattice mismatch induced stress control technology,
Appl. Phys. Lett.
2015,
106,
142106.
专利
著作成果
暂无内容
科研项目
国家自然科学基金优青项目:GaN基宽禁带半导体材料和器件(2020-2022)
国家重点研发计划子课题:大失配衬底上GaN基异质结构中应力与缺陷调控及多物理场下的载流子输运性质(2016-2020)
国家自然科学基金面上项目:Si衬底上基于C掺杂的低位错密度GaN基异质结构的应力与杂质行为调控(2015-2019)
国家自然科学基金青年项目:强电场下InAlN/GaN异质结构的输运性质及其退化机理研究(2013-2015)
国家高技术研究发展计划(863计划)子课题:氮化镓高效率射频放大器(2015-2017)
广东省重点研发计划子课题:面向高频开关电源应用的8英寸Si衬底上GaN基功率器件的关键技术研究及产业化(2019-2021)